氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質軟，具有良好的吸附性，可作為有機涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜；

電化學氧化
氧化膜厚度約為5～20微米，有較高硬度，良好的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學氧化膜，多孔，有很好的吸附能力。

化學氧化
鋁及鋁合金的化學氧化處理設備簡單，操作方便，生產效率高，不消耗電能，適用范圍廣，不受零件大小和形狀的限制。

鋁及鋁合金化學氧化的工藝按其溶液性質可分為堿性氧化法和酸性氧化法兩大類。
按膜層性質可分為:氧化物膜、磷酸鹽膜、鉻酸鹽膜、鉻酸－磷酸鹽膜。


注：
①配方1，2適用于純鋁，鋁鎂合金，鋁錳合金和鋁硅合金的化學氧化。膜層顏色為金黃色，但后二種合金上得到的氧化膜顏色較暗。堿性氧化液中得到的膜層較軟，耐蝕性較差，孔隙率較高，吸附性好，適于作為涂裝底層。

②配方3中加入硅酸鈉，獲得的氧化膜為無色，硬度及耐蝕性略高，孔隙率及吸附性略低，在硅酸鈉的質量分數為2%的溶液中封閉處理后可單獨作為防護層用，適合于含重金屬鋁合金氧化用。

③工件經氧化處理后為提高耐蝕性，可在20g/L的CrO3溶液中，室溫下鈍化處理5～15s，然后在低于50℃溫度下烘干。
酸性氧化